1. Système de filtration multicouche/à charbon actif :
Utilisé dans quel processus de production ?
Les filtres multicouches sont généralement utilisés comme première étape du traitement de l’eau, éliminant efficacement les impuretés telles que les solides en suspension, les colloïdes et les particules de l’eau grâce à la combinaison de différents milieux, fournissant ainsi une source d’eau relativement propre pour les processus de traitement ultérieurs. Cette étape est d’une grande importance pour la protection des équipements de traitement ultérieurs et l’amélioration de l’efficacité globale du traitement.

Les filtres à charbon actif sont principalement utilisés pour éliminer les impuretés telles que les matières organiques, les odeurs et les pigments de l’eau. Le charbon actif possède une forte capacité d’adsorption, ce qui lui permet d’adsorber et d’éliminer ces polluants de l’eau, améliorant ainsi la pureté de la qualité de l’eau. Cette étape est cruciale pour garantir la qualité et la stabilité de l’eau ultrapure.

En combinant des filtres multicouches et des filtres à charbon actif, la plupart des impuretés de l’eau peuvent être éliminées efficacement, fournissant une bonne base de qualité de l’eau pour les traitements avancés ultérieurs tels que l’osmose inverse et l’échange d’ions. Cela contribue à garantir la qualité et la stabilité de l’eau ultrapure requise dans le processus de production de l’industrie électronique des semi-conducteurs, améliorant ainsi les performances et la fiabilité des produits.

Principes techniques
Le principe technique des filtres multicouches consiste principalement à utiliser un ou plusieurs milieux filtrants pour éliminer les impuretés en suspension dans l’eau par filtration en profondeur. Lorsque l’eau brute traverse le matériau filtrant de haut en bas, les particules les plus grosses sont éliminées dans la couche supérieure, tandis que les particules les plus petites sont éliminées plus profondément dans le milieu filtrant. Cela dépend principalement de l’effet d’adsorption et de blocage mécanique de la couche de matériau filtrant, ainsi que de la compacité de la disposition des particules de sable, ce qui donne aux particules d’eau plus d’occasions d’entrer en collision avec les particules de sable et d’être interceptées. Après un tel traitement, les solides en suspension dans l’effluent peuvent être contrôlés à un niveau inférieur pour garantir la clarté de la qualité de l’eau.
Le principe technique des filtres à charbon actif repose principalement sur l’effet d’adsorption du charbon actif. Le charbon actif possède une grande surface et une structure poreuse complexe, ce qui lui confère une forte capacité d’adsorption. Lorsque l’eau traverse un filtre à charbon actif, les polluants tels que les matières organiques, les odeurs et les pigments présents dans l’eau sont adsorbés à la surface du charbon actif, et ainsi efficacement éliminés. De plus, le charbon actif peut également éliminer le chlore résiduel de l’eau, assurant ainsi le fonctionnement normal des équipements de traitement ultérieurs.

Quels effets pouvons-nous obtenir ?
Premièrement, en tant qu’équipement de prétraitement, la conception d’un filtre multicouche avec de multiples combinaisons de milieux lui permet d’éliminer efficacement les grosses impuretés telles que les solides en suspension et les matières particulaires de l’eau. Ceci est crucial pour la protection des équipements et des processus de traitement de l’eau ultérieurs, assurant le fonctionnement stable de l’ensemble du système de traitement de l’eau. Grâce à cette étape, une source d’eau purifiée préliminaire peut être fournie à l’industrie électronique des semi-conducteurs, réduisant ainsi l’impact potentiel des impuretés sur le processus de production.
Deuxièmement, les filtres à charbon actif utilisent leur forte capacité d’adsorption pour éliminer davantage les impuretés traces telles que les matières organiques, les odeurs et les pigments de l’eau. Si ces impuretés ne sont pas éliminées, elles peuvent avoir des effets néfastes sur la qualité et les performances des produits électroniques semi-conducteurs. L’application de filtres à charbon actif peut améliorer considérablement la pureté des sources d’eau et répondre aux exigences strictes de l’industrie électronique et des semi-conducteurs en matière de qualité d’eau de haute qualité.

2. Système d’ultrafiltration :
Utilisé dans quel processus de production ?
Premièrement, dans le processus de nettoyage, les membranes d’ultrafiltration peuvent éliminer efficacement les particules et les ions de l’eau, servant de processus de prétraitement pour les systèmes d’eau ultrapure de haute qualité. Cette eau ultrapure est utilisée pour nettoyer les dispositifs et les équipements semi-conducteurs afin de garantir la propreté des surfaces des produits et d’éviter l’impact des polluants sur les performances et la fiabilité des produits.

Deuxièmement, la technologie d’ultrafiltration est également couramment utilisée dans la préparation de liquides de traitement. Dans le processus de fabrication des semi-conducteurs, divers liquides de traitement tels que des acides, des bases, des solvants organiques, etc. doivent être utilisés. Les membranes d’ultrafiltration peuvent filtrer et purifier ces liquides, éliminer les impuretés et les particules, et garantir que la pureté et la qualité du liquide répondent aux exigences de production.

De plus, la technologie d’ultrafiltration joue également un rôle important dans la circulation de l’eau de refroidissement des équipements. Les équipements de fabrication de semi-conducteurs génèrent une grande quantité de chaleur pendant le fonctionnement et nécessitent de l’eau de refroidissement pour la dissipation de chaleur. La membrane d’ultrafiltration peut éliminer les particules et les ions de l’eau de refroidissement, empêcher les impuretés d’endommager les équipements et assurer le fonctionnement normal des équipements et la stabilité des produits.

Principes techniques
Le principe technique de l’ultrafiltration repose principalement sur un processus de séparation membranaire entraîné par pression. L’essentiel réside dans l’utilisation d’une membrane semi-perméable ayant une taille de pores spécifique, à savoir une membrane d’ultrafiltration, pour intercepter les colloïdes, les particules et les substances ayant un poids moléculaire relativement élevé dans l’eau, tandis que l’eau et les petites particules de soluté peuvent pénétrer la membrane.

La taille des pores des membranes d’ultrafiltration se situe généralement entre 20 et 1000 Å, avec une plage de filtration de 0,002 μm à 0,2 μm, ce qui permet d’intercepter efficacement les particules d’un diamètre supérieur à 0,002 μm, telles que les protéines, les pectines, les graisses et les micro-organismes. Les membranes d’ultrafiltration ayant des matériaux et des structures différents ont des effets de séparation et des plages d’application différents, il est donc nécessaire de choisir la membrane d’ultrafiltration appropriée en fonction des exigences d’application spécifiques. Parallèlement, les conditions de fonctionnement telles que la pression appliquée, le débit et la température peuvent également avoir un impact sur l’efficacité de filtration de l’ultrafiltration, et un contrôle d’optimisation est nécessaire.

Quels effets pouvons-nous obtenir ?
Premièrement, le système d’ultrafiltration peut fournir de l’eau de traitement de haute pureté. Dans le processus de fabrication des semi-conducteurs électroniques, il existe une exigence élevée en matière de qualité de l’eau, et de petites impuretés peuvent avoir un impact grave sur la qualité et les performances des produits. Le système d’ultrafiltration, grâce à sa capacité de filtration efficace, peut éliminer efficacement les particules, les colloïdes, les bactéries et autres impuretés de l’eau, assurant ainsi la pureté de l’eau de traitement et répondant aux exigences de haute qualité de l’eau dans les processus de fabrication des semi-conducteurs électroniques.

Deuxièmement, les systèmes d’ultrafiltration peuvent protéger les équipements de production. Grâce à la capacité des systèmes d’ultrafiltration à fournir de l’eau de traitement pure, cela contribue à réduire la corrosion et l’entartrage des équipements de production causés par des problèmes de qualité de l’eau, prolongeant ainsi la durée de vie des équipements et réduisant les coûts de maintenance.

De plus, les systèmes d’ultrafiltration peuvent également contribuer à améliorer l’efficacité de la production. En assurant la qualité et la stabilité de l’eau de traitement, les systèmes d’ultrafiltration peuvent réduire les interruptions de production et les fluctuations de la qualité des produits causées par des problèmes de qualité de l’eau, assurant ainsi la continuité et la stabilité du processus de production et améliorant l’efficacité de la production.
Enfin, les systèmes d’ultrafiltration contribuent également à la protection de l’environnement et au développement durable. En éliminant efficacement les polluants de l’eau, les systèmes d’ultrafiltration peuvent réduire la difficulté et le coût du traitement des eaux usées et minimiser leur impact sur l’environnement. Parallèlement, l’application de systèmes d’ultrafiltration contribue également à promouvoir la transformation de l’industrie électronique des semi-conducteurs vers des méthodes de production plus respectueuses de l’environnement et durables.

3. Système à membrane d’osmose inverse :
Utilisé dans quel processus de production ?
Les membranes d’osmose inverse sont principalement utilisées dans l’industrie des semi-conducteurs pour les étapes de préparation de l’eau ultrapure. Dans le processus de fabrication des semi-conducteurs électroniques, l’eau ultrapure est largement utilisée pour nettoyer les composants clés tels que les plaquettes de silicium et les puces, éliminant efficacement les particules de surface et les matières organiques, et réduisant les taux de défauts des produits. Les membranes d’osmose inverse peuvent fournir de l’eau déionisée stable et à faible tension, répondant ainsi aux exigences de haute qualité de l’eau de l’industrie des semi-conducteurs.

De plus, la technologie des membranes d’osmose inverse peut également fournir de l’eau de nettoyage de haute qualité, assurant la fiabilité et la stabilité des composants. En utilisant les caractéristiques des membranes d’osmose inverse, un contrôle précis de la qualité de l’eau peut être réalisé, répondant ainsi aux exigences strictes en matière d’eau ultrapure dans les processus de fabrication des semi-conducteurs électroniques.

Principes techniques
La membrane d’osmose inverse est généralement une membrane semi-perméable synthétisée artificiellement ayant une très petite taille de pores, ce qui permet d’intercepter efficacement les impuretés telles que les sels solubles, les matières organiques et les ions de métaux lourds présents dans l’eau, tout en permettant aux molécules d’eau de passer. Si une pression supérieure à la pression osmotique est appliquée d’un côté de la solution concentrée, le sens d’écoulement du solvant sera opposé à la direction osmotique d’origine, commençant à s’écouler du côté de la solution concentrée vers le côté de la solution diluée. Ce processus est appelé osmose inverse. À ce stade, le solvant traverse la membrane d’osmose inverse sous pression, tandis que le soluté est intercepté par la membrane, atteignant ainsi l’objectif de séparation et de purification.

Quels effets pouvons-nous obtenir ?
Premièrement, les membranes d'osmose inverse peuvent éliminer efficacement les impuretés telles que les bactéries, les matières organiques et les éléments métalliques de l'eau, assurant ainsi la qualité et la stabilité de l'eau ultrapure. Cette eau de haute pureté est indispensable dans le processus de fabrication des semi-conducteurs électroniques, utilisée pour nettoyer les composants clés tels que les plaquettes et les puces en silicium, éliminer efficacement les particules de surface et les matières organiques, réduire les taux de défauts des produits et ainsi améliorer la qualité et les performances des produits.

Deuxièmement, l'application de la technologie des membranes d'osmose inverse a ralenti les changements de la qualité de l'eau de production causés par les fluctuations de la qualité de l'eau source, facilitant ainsi la stabilité de la qualité de l'eau en production. Cela a un effet positif sur la stabilité de la qualité des produits d'eau ultrapure et contribue à garantir la production qualifiée de produits semi-conducteurs.

En résumé, l'application de membranes d'osmose inverse dans l'industrie des semi-conducteurs électroniques permet de préparer efficacement de l'eau ultrapure, d'assurer la stabilité et la fiabilité de la qualité des produits et de contribuer également à réduire les coûts de production et la pollution environnementale.

4. Système EDI :
Utilisé dans quel processus de production ?
Les systèmes EDI, également connus sous le nom de systèmes d'électrodésionisation, ont un large éventail d'applications dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est principalement utilisé dans les étapes du processus de préparation de l'eau ultrapure.

Dans le processus de fabrication des semi-conducteurs, l'eau ultrapure est utilisée dans plusieurs étapes clés du processus, telles que le nettoyage des composants clés tels que les plaquettes et les puces en silicium, ainsi que comme base pour la préparation d'autres liquides de processus. Le système EDI peut éliminer efficacement les ions et autres impuretés de l'eau grâce à la technologie des membranes échangeuses d'ions et à la technologie d'électromigration ionique, préparant ainsi de l'eau ultrapure de haute pureté.

Plus précisément, les systèmes EDI peuvent éliminer les ions de l'eau, tels que les ions métalliques tels que le sodium, le calcium, le magnésium, ainsi que les anions tels que les ions chlorure et sulfate, ce qui entraîne une conductivité de l'eau extrêmement faible et répond aux exigences élevées en matière de qualité de l'eau dans les processus de fabrication des semi-conducteurs. Parallèlement, grâce à sa capacité efficace d'élimination des ions, les systèmes EDI peuvent également réduire la fréquence de régénération et la consommation de produits chimiques nécessaires dans les processus traditionnels d'échange d'ions, réduisant ainsi les coûts d'exploitation et les impacts environnementaux.

Principes techniques
Les principes techniques des systèmes EDI sont principalement basés sur la technologie des membranes échangeuses d'ions et la technologie d'électromigration ionique.

Sous l'action d'un champ électrique à courant continu, les ions diélectriques dans la cloison du système EDI subissent un mouvement directionnel. Les membranes échangeuses d'ions ont une perméabilité sélective aux ions, permettant à certains ions de passer tout en empêchant d'autres de passer, réalisant ainsi la purification de la qualité de l'eau. Dans ce processus, la résine échangeuse d'ions est continuellement régénérée par l'électricité, il n'est donc pas nécessaire d'utiliser de l'acide et de l'alcali pour la régénération.

Plus précisément, le module EDI insère une résine échangeuse d'ions entre les membranes échangeuses d'anions/cations pour former des unités EDI, qui sont séparées par des grilles pour former une chambre à eau concentrée et une chambre à eau fraîche. Après avoir installé des électrodes négatives/positives aux deux extrémités du groupe d'unités, le courant continu entraîne les ions négatifs et positifs de la chambre à eau fraîche à traverser les membranes échangeuses d'ions correspondantes et à pénétrer dans la chambre à eau concentrée, éliminant ainsi ces ions dans la chambre à eau fraîche. L'eau de la chambre à eau concentrée transporte les ions hors du système, formant de l'eau concentrée.

Quels effets pouvons-nous obtenir ?
Le système EDI peut préparer efficacement de l'eau ultrapure. Dans le processus de fabrication des semi-conducteurs, l'eau ultrapure est un facteur de production clé utilisé pour le nettoyage des composants de base tels que les plaquettes et les puces en silicium, ainsi que comme base pour la préparation d'autres liquides de processus. Le système EDI, grâce à sa capacité efficace d'élimination des ions, peut éliminer les impuretés telles que les ions et les matières organiques de l'eau, assurant ainsi la qualité et la stabilité de l'eau ultrapure et répondant aux exigences élevées de l'industrie des semi-conducteurs en matière de qualité de l'eau.

De plus, le système EDI présente les avantages d'une utilisation simple, d'une absence de régénération et d'une qualité d'eau de sortie stable. Tout en répondant aux exigences d'entrée, il peut garantir que la résistivité électrique de la production continue d'eau est ≥ 15 M Ω.

5. Système de lit mélangé de polissage :
Utilisé dans quel processus de production ?
Les lits mélangés de polissage sont principalement utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs pour le processus de préparation de l'eau ultrapure.

Lavage des puces : Au cours du processus de fabrication des puces, diverses impuretés sont générées par des processus tels que la précipitation chimique/physique, la corrosion et la cuisson. Pour éliminer ces impuretés et garantir les performances des puces, il est nécessaire d'utiliser de l'eau ultrapure pour le lavage.

Préparation des matériaux semi-conducteurs : L'eau ultrapure peut éliminer les impuretés de la surface des matériaux semi-conducteurs, garantissant les exigences de pureté des matériaux semi-conducteurs, améliorant ainsi efficacement les performances et la fiabilité des puces semi-conductrices.

Dans ces étapes du processus, l'eau ultrapure est utilisée pour nettoyer les dispositifs et équipements semi-conducteurs, assurant la propreté des surfaces des produits et évitant l'impact des polluants sur les performances et la fiabilité des produits. Le système de lit mélangé de polissage peut éliminer efficacement les ions et les matières organiques de l'eau, garantissant que la qualité de l'eau répond aux normes élevées de l'industrie des semi-conducteurs.

Principes techniques
Le principe technique du lit mélangé de polissage est principalement basé sur le principe de l'échange d'ions. Cette résine est un composé polymère composé de groupes échangeurs d'ions spéciaux qui peuvent présenter une fonction d'échange d'ions en solutions aqueuses.

Dans l'application de l'industrie des semi-conducteurs, les lits mélangés de polissage sont principalement utilisés pour la préparation de l'eau ultrapure. Lorsque l'eau brute contenant des ions impuretés traverse la résine, les groupes échangeurs d'ions de la résine vont s'échanger avec ces ions impuretés, les adsorber sur la résine et libérer des ions inoffensifs pour le processus. De cette façon, grâce à l'interaction d'échange d'ions de la résine, les ions impuretés de l'eau brute sont efficacement éliminés, ce qui donne de l'eau de haute pureté.

Quels effets pouvons-nous obtenir ?
Premièrement, il assure la qualité de l'eau ultrapure. L'eau ultrapure est cruciale dans le processus de fabrication des semi-conducteurs électroniques. Le lit mélangé de polissage peut éliminer efficacement les ions, les matières organiques et autres impuretés de l'eau, assurant la qualité et la stabilité de l'eau ultrapure et répondant aux normes élevées de qualité de l'eau dans la fabrication de semi-conducteurs électroniques.

Le polissage du lit mélangé contribue également à améliorer l'efficacité de la production. Grâce à sa capacité d'échange d'ions efficace et à ses performances stables, il peut réduire les interruptions de production et la maintenance des équipements causées par des problèmes de qualité de l'eau, assurant la continuité et la stabilité du processus de production.